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半导体与光电元件实验室

D214半导体与光电元件实验室
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成立宗旨

       本实验室于 91学年度成立,可供教学、研究及产学合作用,主要设 备有Class 1000之黄光无尘室、Class 10000之制程设备室、清洗槽、光 阻涂布机(Spinner)、加温器及烤箱、冷藏器、反应性离子蚀刻机(RIE)、 真空蒸镀机 (Thermal Evaporator)、溅镀机 (Sputter)、高温炉 (Furnace)、曝光对准机(Aligner)、光阻涂布机(Spinner),制程包含晶 片清洗、光阻涂布、曝光显影、金属薄膜蒸镀、退火、干湿蚀刻、氧化物 成长等等。配合材料之选择,可制作之元件包括:主动发光元件(雷射及 发光二极管)、微波高速元件(HBT HFET)、显示器元件、太阳能电池...等等。

实验室的目标
  1. 支援教学课程中有关半导体与光电元件技术相关之制作工作
  2. 支援校务相关活动。
  3. 与产业界建立良好之互动关系。
相关特色
  1. 数码半导体IC制作技术
  2. 类比半导体IC制作技术
  3. 光电元件IC制作技术
  4. 发展半导体制程光电精密定位技术
  5. PCB及SIP制作技术
  6. 金属质3D制作技术