半導體與光電元件實驗室

       本實驗室於 91學年度成立，可供教學、研究及產學合作用，主要設 備有Class 1000之黃光無塵室、Class 10000之製程設備室、清洗槽、光 阻塗佈機(Spinner)、加溫器及烤箱、冷藏器、反應性離子蝕刻機(RIE)、 真空蒸鍍機 (Thermal Evaporator)、濺鍍機 (Sputter)、高溫爐 (Furnace)、曝光對準機(Aligner)、光阻塗佈機(Spinner)，製程包含晶 片清洗、光阻塗佈、曝光顯影、金屬薄膜蒸鍍、退火、乾濕蝕刻、氧化物 成長等等。配合材料之選擇，可製作之元件包括：主動發光元件（雷射及 發光二極體）、微波高速元件（HBT HFET）、顯示器元件、太陽能電池...等等。

1. 支援教學課程中有關半導體與光電元件技術相關之製作工作
2. 支援校務相關活動。
3. 與產業界建立良好之互動關係。

1. 數位半導體IC製作技術
2. 類比半導體IC製作技術
3. 光電元件IC製作技術
4. 發展半導體製程光電精密定位技術
5. PCB及SIP製作技術
6. 金屬質3D製作技術